传感器微纳加工

高灵活性、高精度的"共享超净间"服务

科研服务-传感器微纳加工

Scientific Research Services

提供灵敏的传感器微纳加工服务

高灵活性微纳加工服务

1片起订,按需定制,是您身边最便捷的"共享超净间"

我们拥有高精度的光刻工艺线,能够将您设计的微纳图形从掩膜版精确转移至晶圆表面。无论是基础的微电极阵列,还是复杂的MEMS结构,我们都能提供从匀胶、前烘、对准曝光到显影(设计到成品)的全套解决方案。

服务项目 设备名称 设备型号 关键参数 可加工材料 典型应用
光刻 自动匀胶显影机 KS-S100-1C1D 尺寸:4英寸、均匀性:5% LOR、S1813、SU8、LR812-050、LR812-030、RZJ-5513、IP100-2.5等 保护层、图形化层制备
紫外光刻机 EVG620 尺寸:8英寸、4英寸、4寸光强均匀性:优于3%、8寸光强均匀性:优于5%、 曝光精度1um、对位误差0.5um 图形化

高灵活性微纳加工服务

1片起订,按需定制,是您身边最便捷的"共享超净间"

提供干法与湿法两种刻蚀技术,可对金属、半导体、介质薄膜等多种材料进行选择性去除,实现从简单的图形转移到复杂三维结构的构建。无论您需要的是各向同性的快速腐蚀,还是高深宽比的垂直刻蚀,我们都能提供稳定可靠的工艺支持。

服务项目 设备名称 设备型号 关键参数 可加工材料 典型应用
刻蚀 ICP刻蚀机 NE-550EXz 尺寸:4英寸、均匀性:3% 工艺气体:SF6、CF4、CHF3、O2、Ar、He 介质层、钝化层刻蚀
湿法台 LF-TO4-SJW-07B 尺寸:4英寸、均匀性:5% HfO2、Al2O3、Y2O3、IGZO等 介质层、钝化层刻蚀

高灵活性微纳加工服务

1片起订,按需定制,是您身边最便捷的"共享超净间"

我们提供多种先进的薄膜沉积技术,可实现金属、介质、半导体等多种材料在不同基底上的高精度沉积,满足您在电极制备、绝缘层、敏感层、阻挡层等方面的多样化需求。从纳米级到微米级,我们都能为您精准控制薄膜的厚度、成分。

服务项目 设备名称 设备型号 关键参数 可加工材料 典型应用
薄膜沉积 ALD picosun p300b 尺寸:4英寸、均匀性:5%、可低温生长 HfO2、Al2O3 介质层生长
电子束镀膜仪 ei-501z 尺寸:4英寸、均匀性:5%、真空度小于5e-8 Au、Ag、Pd、Al、Y、Ti等 电极制备
磁控溅射 DE500 尺寸:4英寸、均匀性:5%、直流电源+射频电源 Pd、Ta、Mg、IGZO、Cr、Pt、SiO2等 电极制备

高灵活性微纳加工服务

1片起订,按需定制,是您身边最便捷的"共享超净间"

眼见为实,我们提供强大的微观形貌与结构表征服务,帮助您直观地验证工艺结果、分析器件失效原因、表征材料微观结构。从纳米级的表面粗糙度到微米级的器件形貌,我们为您提供清晰、高分辨率的"眼睛",让您的每一步工艺优化都有据可依。

服务项目 设备名称 设备型号 关键参数 可加工材料 典型应用
表征 SEM Sigma300 尺寸:4英寸(向下兼容) 支持表面形貌表征、截面表征 材料形貌表征
AFM Dimension XR 尺寸:4英寸(向下兼容) 支持表面形貌表征、台阶及粗糙度测量 材料形貌表征

高灵活性微纳加工服务

1片起订,按需定制,是您身边最便捷的"共享超净间"

我们提供多样化的器件封装解决方案,从芯片级键合到板级集成,可有效保护您的精密器件免受环境影响,并实现可靠的电气连接,满足您在原型验证、产品定型及小批量生产等环节的需求

服务项目 设备名称 设备型号 关键参数 可加工材料 典型应用
封装 划片机 DS623 最大加工尺寸:100mm@圆片、0-70mm@方片(向下兼容)
机械切割
/ 裁片

服务流程图

1
咨询沟通
2
方案确认
3
客户寄样/
提供设计
4
加工制备
5
过程质检
6
交付样品/
报告
7
售后支持

常见问题解答

Q 我没有设计文件(GDSII),只有手绘图可以吗?
可以,我们的工程师可以辅助您完成CAD设计。
Q 最快多久可以交付?
标准单步工艺最快可在3个工作日内交付,具体取决于工艺复杂度和设备排期。
Q 如何保证我的设计和数据安全?
我们可签署保密协议,所有客户数据都将严格保密。
Q 支持哪些基底材料和尺寸?
我们常规支持2/4/6英寸硅片、玻璃、石英等,也支持异形或碎片样品,请与工程师确认。
常见问题解答

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